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第376章 極紫外光刻機

  蘇揚看了半秒劉元龍,道:“這些設備,的確是最新的半導體核心設備,尤其是光刻機。”

  說著,指著光刻機道:“這臺光刻機里面的激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、能量探測器、掩模版都是國際最前沿的技術產品。”

  蘇揚繼續道:“另外,掩膜臺的運動控制精度達到納米級,物鏡、量臺、曝光臺、內部封閉框架、減振器等物,也都是目前最先進的產品。”

  “當然,最主要的還是這臺光刻機的光源,并非是目前國際國內流行的深紫外光。”

  “所采用的光是13.5nm的軟X射線,也就是極紫外光作為光源。”

  蘇揚的話音落下。

  現場陡然變得一片寂靜。

  四名高冷的保鏢們不知所云,作為退役的軍人,他們對這些科技玩意兒一無所知,完全聽得云里霧里。

  但看到半導體公司的人,一個個都瞠目結舌,傻了似的,又覺得boss的話不明覺厲。

  短暫的寂靜之后,便是一片嘩然,安正國等七人議論紛紛。

  “這……”

  “采用的是13.5nm的極紫外光?”

  “怎么可能,我前兩天才剛剛看的新聞,尼康公司的光刻機,也才在準備進發32nm半導體工藝,而光源依舊用的是193nm的深紫外光啊!”

  “是啊,曝光波長一下子降到13.5nm,這豈不是意味著……它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸了!!!”

  “蘇總,您別不是在逗我們開心啊,現在全球范圍內,絕對沒有任何一家半導體公司,能造出這樣的設備!”

  “蘇總,這到底是真是假啊!”

  幾名遠揚半導體的高層,一個個都紅著眼眶,把目光不斷在蘇揚和光刻機的身上徘徊。

  作為半導體制造業皇冠上的明珠,光刻機的意義不言而喻。

  芯片在生產中需要進行2030次的光刻,耗時占到IC生產環節的50左右,占芯片生產成本的三分之一。

  通常意義上來說,只要解決光刻機的問題,那么芯片制造的工程,就完結了一半。

  因此,也不怪幾個搞半導體的家伙,像是癡·漢一樣看著他。

  蘇揚笑道:“行了,你們也別這樣看我,是真是假,我嘴上說了也沒用,召集人員進行一次實驗,不就一目了然了?安總,工廠內應該是有光刻膠和硅片的吧?”

  安正國一愣,連忙道:“有,都儲存著呢,我馬上找人來進行實驗。”

  說著,安正國立刻召集人手,搬來相應的半導體材料。

  半導體芯片生產主要分為IC設計、IC制造、IC封測三大環節。

  所謂IC,就是集成電路的英文簡寫。

  IC設計是高端技術,也是inter等公司,能屹立于半導體行業巔峰最重要的因素之一。

  主要根據芯片的設計目的,進行邏輯設計和規則制定,并根據設計圖制作掩模,以供后續光刻步驟使用。

  而IC制造,就是半導體芯片的制造了。

  一般,要實現芯片電路圖從掩模上轉移至硅片上,并實現預定的芯片功能。

  包括了光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學機械研磨等步驟。

  至于IC封測,就是完成對芯片的封裝和性能、功能測試,是產品交付前的最后工序。

  IC設計就不提了,蘇揚有蘋果A6處理器的技術,其中就包括了32nm芯片的設計。

  另外,商城掛著的inter酷睿系列,也有45nm——14nm芯片的工藝技術。

  而在IC制造中,光刻又是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。

  其中的難點和關鍵點,在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上。

  這一過程,目前只能通過光刻,才能最有效地實現。

  所以,光刻的工藝水平,往往直接決定了芯片的制程水平和性能水平。

  安正國找來技術人員和材料,在蘇揚的指導下,這些專業生產芯片的員工,初步了解到這臺光刻機的使用流程。

  光刻的原理,實際上非常簡單。

  在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠,再用光線透過掩模照射在硅片表面。

  被光線照射到的光刻膠,會發生反應。

  此后,再用特定的溶劑洗去被照射或未被照射的光刻膠,就實現了電路圖從掩模到硅片的轉移。

  這和華夏古代的印刷術,實際上有一些相似之處,但光刻技術卻比印刷術難了千萬倍。

  一般的光刻步驟,有氣相成底膜、旋轉涂膠、軟烘、曝光、顯影、堅膜。

  接著,就是進行檢測,主要是顯影檢測,讓合規的硅片進入后續的蝕刻流程。

  所謂蝕刻,便是通過化學或物理的方法,有選擇地從硅片表面,除去不需要材料的過程。

  完成之后,就能通過特定溶劑,洗去硅片表面殘余的光刻膠了。

  當然,這是最簡易的光刻步驟,在實際生產制造中,比這復雜了上百倍。

  從開始光刻,到最后洗去殘余的光刻膠,幾個步驟,就足足花了三個多小時。

  當然,這里面也有一些員工剛剛接觸新設備,操作不順手的因素。

  當時間來到下午四點半的時候。

  車間內,一片驚喜和歡騰的景象。

  “出來了,居然真的做出來了!”

  “60nm的電路圖,居然真的被我們轉移到了硅片上。”

  “不可思議啊!全華夏能做60nm芯片的企業,不超過三家,而且全是在18年下半年才剛剛突破的技術,還是在實驗室里!做到量產的話,得到今年年底,甚至是明年年初去了。”

  “是啊,而我們現在,卻擁有了一臺可以量產60nm芯片的光刻機,如果操作熟練了,速度提上去,再進行交替光刻,一天至少可以造上數百片12寸的圓晶啊!”

  “這是一個突破,了不起的突破,如果我們把這里發生的事情,宣布出去,足以震驚整個華夏,乃至是中央都要被驚動!”

  華夏在半導體行業,被壓了太多年了。

  從上個世紀以來,就一直跟在西方國家的屁股后面跑,說是向人家乞討技術也不為過。

  雖然60nm芯片的量產,和45nm芯片的量產,還有一定的差距。

  但是,在工藝水平上,也能證明華夏沒比inter等落后太多了。

  這是一個十分漲士氣的突破。

  一旁,劉元龍沉聲道:“各位,你們難道沒有意識到嗎?剛才我們用的,只是這臺光刻機最底線的精度!”

  這話一出,幾名興奮的家伙,立刻止住了話音,轉而張了張嘴巴,眼睛立刻掙得大大的。

  “是啊,剛才用的還是最低的精度!”

  “沒錯,往上一個刻度的話,豈不是意味著……45nm甚至32nm的芯片也有可能了?”

  “不對,我之前看過一篇學術報告,EUV光刻技術的真正領域,是32nm,不,是22nm以下的領域!”

  “22nm以下,這……這也太瘋狂了吧。”

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